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CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀，是電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。觸摸屏操控，配方可編程，保證結果可重復；具有斷電時(shí)系統自動(dòng)排氣功能，防止系統被機械泵油污染。標配膜厚監測裝置；主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(cháng)連續運行時(shí)間；在對樣品進(jìn)行鍍膜之前或鍍膜之后，可選對樣品進(jìn)行等離子刻蝕處理，以增加薄膜的附著(zhù)力或對膜層表面進(jìn)行改性。

CCU-010 LV_CT-010精細真空鍍膜系統專(zhuān)為SEM和EDX的常規高質(zhì)量鍍碳而設計。緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹(shù)立了新標桿。將該頭插入CCU-010 LV鍍膜主體后，即可立即使用，適合SEM/EDS等需要高質(zhì)量碳膜應用的場(chǎng)合。

CCU-010 LV普通真空鍍膜系統專(zhuān)為SEM和EDX的常規高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設計。它是一款結構緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設備，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨特的插入式設計，通過(guò)簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后，可選進(jìn)行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專(zhuān)有的自動(dòng)碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜，無(wú)需用戶(hù)干預。主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(cháng)連續運行時(shí)間。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統專(zhuān)為滿(mǎn)足電鏡樣品制備領(lǐng)域及材料科學(xué)薄膜應用的最高要求而設計。CCU-010 HV 高真空濺射儀采用優(yōu)質(zhì)組件和智能設計，可在超高分辨率應用中提供出色的結果。 標配抽真空系統完全無(wú)油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位于內部。標配FTM膜厚監測裝置。主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(cháng)連續運行時(shí)間。

CCU-010 HV_CT-010為一款結構緊湊、全自動(dòng)型的熱蒸發(fā)鍍碳設備，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨特的插入式設計，變換鍍膜頭非常簡(jiǎn)單。在鍍膜之前和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理(可選項)。模塊化設計可輕松避免交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專(zhuān)有的自動(dòng)卷送碳源設計–多達數十次碳鍍膜，無(wú)需用戶(hù)干預。

CCU-010 HV為一款結構緊湊、全自動(dòng)型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨特的插入式設計，通過(guò)簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后，可選進(jìn)行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專(zhuān)有的自動(dòng)碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜，無(wú)需用戶(hù)干預。主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(cháng)連續運行時(shí)間。